Gasinjektor für die Halbleiterindustrie
Der von Bosch Advanced Ceramics entwickelte keramische Gasinjektor, additiv gefertigt mit der Lithoz-LCM-3D-Drucktechnologie, ist für Ätzprozesse in der Halbleiterindustrie ausgelegt. Gefertigt aus hochreinem Aluminiumoxid (99,8 %, Lithalox 350) bietet er außergewöhnliche chemische Beständigkeit, thermische Stabilität und einen partikelfreien Betrieb. Das Bauteil vereint das ursprünglich zweiteilige Design des Kunden in einem einzigen Injektor mit 3 internen 6-mm-Kanälen, 62 feinen Öffnungen mit 0,2-mm-Wandstärke und einer strömungsoptimierten Wabenstruktur. Diese Integration verbessert die Gasflusspräzision, reduziert die Montagekomplexität und erhöht die Prozesszuverlässigkeit. Bosch produziert jährlich 2.000 Einheiten (sechs pro Druckjob) und unterstützt damit eine effiziente, kontaminationsfreie Waferfertigung mit langer Lebensdauer und vereinfachter Wartung.







